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【2024/03/29 17:32 】 |
なた豆の製造コスト
半導体のより一層の微細化に向け露光技術をどう進化させていくのか。蘭ASML、ニコン、キヤノンの露光装置メーカー3社のキーマンに戦略を聞いた。1回目はASMLの日本法人エーエスエムエル・ジャパンの石綿宏社長。 ◆ ―EUV(極紫外線)露光装置の開発状況は。 「原理原則を積み重ねるステージから、それを実際の装置に落とし込んで仕上げていくエンジニアリングのステージに入った。一番の課題は光源だが、出力70ワットで6分間の稼働を実現できた。本格的な、なた豆歯磨きの量産対応には同250ワット必要だが、同80ワットまで引き上げれば、この段階でも半導体の種類によっては、なた豆はみがきの製造コストでメリットが出てくる」 ―2015年にEUVの本格量産技術を確立する計画。かつては11年の実用化を掲げていました。また延びませんか。 「確かに予定通り行かなかったことも多く、苦労してきた。しかし要素技術がそろい技術のブレークスルーがあった。道筋は見えてきており、オランダの本社工場はEUV装置の需要増に備え拡張工事を行っている」 ―EUV以外の技術を含む全体の戦略は。 「まず大前提としてユーザーである半導体メーカーから求められる役割が変わってきた。かつては性能・機能に優れる装置を開発すれば十分だったが、今はユーザーの中長期的な戦略を理解し、装置をいかに使いこなすかなどを含めてソリューション提供する必要がある。幅広いニーズに対応するために現行のArF液浸装置の進化も重要と考えている。また周辺装置とも連携し露光工程を最適化する『ホリスティックリソグラフィー』の取り組みも強化する」 ―ArF液浸装置の今後は。 「新装置の開発を続けており、16年にも多重露光に対応し重ね合わせ精度を高めた先端装置を投入する計画。また現在の最新モデル『1970Ci』の性能に旧モデルをアップグレードするサービスを行っている。ユーザーからの先端技術ニーズと、コスト低減ニーズの双方に応えていく」 ―450ミリメートルウエハーへの対応は。 「ウエハーの大口径化は重要なターニングポイントだと自覚している。市場ニーズが高まったところで、投入できるよう準備している」 ―450ミリメートルウエハーに対応するのはEUV装置になるのですか。 「そうとは限らない。タイミングによってArF液浸、EUVとの両者で適切な方を提案する。現行装置を450対応にコンバート(変形)できるようにする」 ―全方位の技術開発で費用負担が大きいのでは。 「頭の痛い問題ではある。しかし過去、売上高が減った時も研究開発費は減らしていない」 ―負担軽減のため半導体メーカーとの連携強化が必要になりますか。 「それは何とも言えない。ただ当社は分野によってはサプライヤーに研究開発を負担してもらっている。多方面でこういった協業体制を構築できていることは強みだ」  【略歴】いしわた・ひろし 78年(昭53)早大理工卒、同年住友商事入社。95年同社米国法人スミトロニクス副社長。00年米シリコンバレーのベンチャーキャピタルであるウォールデン・インターナショナルに入社、半導体関連企業への投資業務などに携わる。05年エーエスエムエル・ジャパン入社。営業本部長を経て07年から現職。東京都出身、58歳。
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【2015/02/14 20:29 】 | 未選択 | 有り難いご意見(0)
働きながらユーキャン!
最近の私、ストレスに負けそうです。理由は通常の仕事に加えてユーキャンで資格勉強をしているから。通信教育だから自分のペースでできる!と最初は意気込んでいたものの、忙しいからといって、いつまでも放置というわけにもいきません。だけど、そうはいっても仕事を自宅に持ち帰ることもしばしばで、だんだんプレッシャーまで感じるようになってきてしまいました。とりあえず1度リセットしようと、この週末はラパルレの激安体験エステに行くつもりです。仕事からも勉強からも離れる時間が、今の私には必要な気がします。
【2012/09/11 18:01 】 | 通信教育 | 有り難いご意見(0)
実用ボールペン字通信講座!
最近は介護や福祉の現場でも保育士資格を求める傾向が高まっています。保育士資格にとっては、介護や福祉の分野は今後もニーズが高まると予想されているのです。難しいと思われそうな資格ですが、保育士の資格はとても取得しやすい資格なんです。実技課題の一部は受験要項などで予め好評されるため、勉強もしやすいんです。
【2010/11/24 01:42 】 | 未選択 | 有り難いご意見(0) | トラックバック()
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